DUV光刻技术或被限定 韩方为维护三星、SK海力士中国加工厂明确提出抵制

虽然EUV（极紫外线源）光刻技术在禁运之列，但DUV（深紫外线源）安全性，就在不久前，中芯公示称与ASML签定了12亿美金的订购合同，內容便是DUV光刻技术。

但是，在振臂一呼有美政治家劝谏进一步对华贸易禁运DUV光刻技术后，韩半导体材料行业协会（KSIA）早已逐渐商谈并明确提出抵制，缘故是担忧三星、SK海力士在中国的集成ic加工厂受到牵连，他们对韩国经济也一样关键。

据统计，DUV光刻技术现阶段主要是KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）二种投射式光刻技术，本次ArF浸入式光刻技术被尤其训话，其对10~16nm芯片制造尤为重要，价钱六亿元rmb上下。

依照对2020年全世界光刻技术统计分析的数据，ArF光刻技术销售量112台、KrF大概130台，销售量市场份额占有率分别是27%和31%，累计贴近6成。经销商层面，除开ASML，nikon、佳能eos也都能生产制造，仅仅销售量比不上ASML。

自然，因为光刻技术都无法解决美国技术性，因此就算ASML总公司西班牙，nikon、佳能eos总公司日本，也都于事无补。